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CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。CIF等離子清洗機F系列性能穩(wěn)定，操作簡單方便，易維護。

CIF勻膠機轉速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設計，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

紫外臭氧清洗機（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機污染物。

等離子灰化儀又稱等離子有機質(zhì)去除儀用于煤與生物質(zhì)樣品的低溫灰化，SEM&TEM中有機樣品刻蝕，塑料品的表面處理以及有機材料的微觀灰化。

CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發(fā)誘導成膜”原理研發(fā)生產(chǎn)的*薄膜制備設備，通過真空環(huán)境加速溶劑蒸發(fā)，驅(qū)動溶質(zhì)（如有機小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優(yōu)勢，廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領域。

CIF離子濺射儀是一款專為貴金屬及合金材料鍍膜研制的高精度設備，集*控制技術與人性化設計于一體，可實現(xiàn)精準、高效且穩(wěn)定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實驗與精密制造領域，為用戶提供高質(zhì)量、一致性高的鍍膜效果。

CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機，采用 RIE 反應離子誘導激發(fā)方式，實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所，微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價比高，易維護，處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。