小型狹縫涂布儀

英國(guó)Ossila小型狹縫涂布儀結(jié)構(gòu)緊湊，價(jià)格實(shí)惠，使用簡(jiǎn)單，準(zhǔn)確度高。 對(duì)于那些希望在小型實(shí)驗(yàn)室中擴(kuò)大實(shí)驗(yàn)工藝的用戶來(lái)說(shuō)，它是理想之選。與卷對(duì)卷和片對(duì)片沉積工藝相兼容，狹縫涂布是用于可擴(kuò)展沉積薄膜的技術(shù)之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無(wú)缺陷的沉積，適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高，準(zhǔn)確且可重復(fù)，厚度可通過(guò)改變流速和基材速度來(lái)控制。

小型狹縫涂布儀產(chǎn)品特征

• 體積小巧---緊湊型桌面設(shè)計(jì),可放置在標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)臺(tái)，通風(fēng)櫥，甚至手套箱內(nèi)使用。
• 輕松設(shè)置---即插即用，不需要壓縮氣體或真空管線。
• 高交叉網(wǎng)均勻性---衣架式溶液分配設(shè)計(jì)，流速均勻。可獲得高均勻性的涂層，適用于各種粘度的溶劑。不銹鋼槽模頭可與廣泛的材料兼容。
• 通道厚度可變---可更換的不銹鋼墊片，更改槽模通道的厚度。通過(guò)插入多個(gè)墊片，以100μm的間隔增加通道厚度。
• 均勻的流量和厚度---槽模系統(tǒng)內(nèi)置注射泵。用戶可通過(guò)軟件精確控制注射泵進(jìn)入狹縫模頭系統(tǒng)的溶液量，從而能精確和可重復(fù)地控制沉積膜的厚度。
• 溫度控制---操作臺(tái)上的內(nèi)置熱板，基板溫度控制在溫120°C。軟件中可設(shè)置溫度補(bǔ)償以適應(yīng)高氣流環(huán)境，校正基板和熱板溫度之間的差異。通過(guò)降低表面張力控制基材溫度可改善溶液的潤(rùn)濕性，同時(shí)干燥速率也可以改變沉積膜的納米結(jié)構(gòu)。
• 基板速度設(shè)置范圍廣泛---操作平臺(tái)可平穩(wěn)，連續(xù)的移動(dòng)。電機(jī)以低至1mm/s的速度到高達(dá)50mm / s的速度移動(dòng)。
• 精確定位---通過(guò)使用三點(diǎn)校平系統(tǒng)和高精度千分尺，可以精確調(diào)整平臺(tái)和涂布頭之間的位置。精細(xì)對(duì)齊可以使系統(tǒng)在平臺(tái)行程范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)低至1um/厘米的高度變化。
• 涂布頭高度控制---涂布頭架上方預(yù)留了兩個(gè)微米的空間，用于調(diào)節(jié)涂布頭和平臺(tái)之間的位置。通過(guò)調(diào)整狹縫模頭的高度，改善彎月面的穩(wěn)定性，改變小濕膜厚度。三點(diǎn)調(diào)平系統(tǒng)，狹縫擠出式平臺(tái)可以與涂布頭精確對(duì)準(zhǔn)。

內(nèi)置注射器泵可以精確控制溶液流量和體積。

狹縫擠出頭特別設(shè)計(jì)，整個(gè)涂布寬度內(nèi)可保證均一涂布效果。

直觀的鍵盤覆FEP保護(hù)膜，有很好的耐溶液腐蝕性。

內(nèi)置軟件

英國(guó)Ossila小型狹縫涂布儀內(nèi)置系統(tǒng)軟件，高清全彩色LCD液晶顯示屏，內(nèi)置軟件可編程復(fù)雜的多步驟過(guò)程，系統(tǒng)的不同部分可獨(dú)立控制。不需要任何外部計(jì)算機(jī)控制。節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間。系統(tǒng)能夠保存20個(gè)不同的程序，每個(gè)程序多包含50個(gè)步驟。便于以后的重復(fù)性實(shí)驗(yàn)。用戶可選擇各種溶液分配速度，分配量，分配時(shí)間，階段速度和移動(dòng)的距離。結(jié)合簡(jiǎn)單易用的控制面板和用戶界面，系統(tǒng)編程可快速完成。

應(yīng)用領(lǐng)域

• 有機(jī)光伏
• 有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管
• 導(dǎo)電聚合物
• 納米線
• 納米管
• 2D材料
• 有機(jī)發(fā)光二極管
• 鈣鈦礦光伏
• 鈣鈦礦發(fā)光二極管
• 染料敏化太陽(yáng)能電池

還有很多...

小型狹縫涂布儀技術(shù)規(guī)格

• 狹縫擠出頭材質(zhì)：不銹鋼。
• 狹縫擠出頭涂布寬度：50mm(多)。
• 狹縫擠出墊片厚度：100μm。
• 狹縫擠出墊片套裝：5個(gè)50毫米寬墊片或5個(gè)25毫米寬的墊片。
• 電熱板溫度：120°C。
• 行程長(zhǎng)度：100mm。
• 低平臺(tái)速度：100μm.s-1。
• 平臺(tái)速度：50mm s-1。
• 低注射器速度：12μm.s-1。